長江商報消息 ●長江商報記者 李璟
中國光谷誕生重大科技成果,湖北企業在半導體專用光刻膠領域實現重大突破。
日前,武漢太紫微光電科技有限公司(簡稱太紫微公司)在全國率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方,我國芯片制造關鍵原材料取得瓶頸性突破。該公司推出的T150A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現配方全自主設計,有望開創國內半導體光刻制造新局面。
從性能來看,該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列,相較于國外同系列產品UV1610,T150A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達120nm,且工藝寬容度更大,穩定性更高,堅膜后烘留膜率優秀。
長江商報記者注意到,太紫微公司成立至今不到5個月時間。天眼查顯示,太紫微公司成立于2024年5月31日,地址位于武漢光谷,是一家以從事研究和試驗發展為主的企業,企業注冊資本200萬元。公司法定代表人為朱明強,持股比例40%,最終受益股份77%。
根據華中科技大學官網,朱明強為華中科技大學武漢光電國家研究中心二級教授,光學與電子信息學院雙聘教授,主要研究領域為有機及納米光電子學,研究方向包括熒光分子開關合成與應用、有機光電材料與器件。朱明強于2018年入選英國皇家化學學會會士,近五年來主要從事熒光分子開關合成及超分辨顯微成像、聚集誘導發光、光刻膠,以及先進能源材料和器件等項目的相關研究。
這意味著,太紫微公司的背后,有著華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊的強力支撐。
武漢光電國家研究中心是科技部于2017年批準建設的第一批、也是唯一一批6個國家研究中心之一,其前身為2003年獲批的武漢光電國家實驗室。該團隊主攻關鍵光刻膠底層技術研發,已在電子化學品領域深耕20余年。
本次太紫微公司推出的T150A光刻膠產品,堪稱業界的一顆新星。太紫微公司負責人朱明強表示,這是我國首次攻克合成光刻膠所需原料和配方,對我國逐步改變在集成電路領域的受制現狀具有重大意義。不過從原材料開發起步,最終獲得自主知識產權的配方技術,這僅僅是初步成果。未來團隊還將研發一系列適用于不同場景的KrF與ArF光刻膠,為國內相關產業帶來更多創新與突破。
責編:ZB